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其中,2.5D封装通过中介层实现了高密度互连—— 中介层多采用硅或玻璃材料,通过重布线层(RDL)与硅通孔(TSV)构建精细互连网络,芯片先与中介层键合,再通过中介层连接至基板。硅中介层的布线密度远高于传统有机基板,可实现微米级线宽与线距,大幅缩短芯片间互连距离,使信号带宽提升 3-5 倍,功耗降低 40% 左右;而玻璃中介层凭借更低的介电损耗与更优的热稳定性,成为下一代 2.5D 封装的核心材料方向。典型应用包括 AI 加速卡、高端 GPU(如 NVIDIA H100)、数据中心芯片,台积电 CoWoS、英特尔 EMIB 等技术均是 2.5D 封装的成熟代表,目前已实现大规模量产。

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关于作者

孙亮,专栏作家,多年从业经验,致力于为读者提供专业、客观的行业解读。

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